等离子体加强化学气相堆积 (PECVD) 镀膜装备_MV-LH06K

一套在线多腔体准静态PECVD装备，在单晶硅片正反面堆积本征非晶硅和搀杂纳米硅薄膜层。

装备上风
  • 01
    Inline多腔体准静态PECVD镀膜手艺
  • 02
    分层高品德非晶硅钝化镀膜手艺
  • 03
    PECVD接纳怪异曲面showerhead放电阴极设想布局
  • 04
    大尺寸、轻载荷、低热收缩系数、高立体度的复合载板设想
  • 05
    Inline耐侵蚀磁流体真空传递大尺寸载板
  • 06
    RF疾速启辉设置
  • 07
  • 08
  • 09
装备展现
等离子体加强化学气相堆积 (PECVD) 镀膜装备_MV-LH06K
根基信息
  • 1. 产能（ 片/ 小时） 及硅片尺寸*：17280片@G12半片；19400片@G12半片